去离子水设备

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去离子水设备（DI水设备）是一种通过离子交换、反渗透、电去离子（EDI）等工艺去除水中溶解性离子，降低电导率、提高电阻率的水处理系统。其核心目标是去除水中的无机盐类，如钙、镁、钠、钾、碳酸氢根、硫酸根、氯离子等，从而得到去离子水或高纯水。去离子水设备通常由预处理单元、反渗透单元、离子交换单元（复床/混床）、EDI模块、抛光混床、紫外装置、终端过滤器和控制系统等组成。

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去离子水设备 | 产品详情页

去离子工艺流程

PROCESS FLOW

水

原水进水

市政自来水
或 RO 产水

预处理

多介质 + 活性炭
保安过滤

反渗透 RO

预脱盐
降至原水 5%～10%

离子交换 / EDI

复床 · 混床
或电去离子

抛光精制

抛光混床
UV 氧化降 TOC

终端过滤

超滤 / 除菌
截留颗粒微生物

出

去离子水

1～18.2 MΩ·cm
在线监测

工艺路线：预处理 → 反渗透 → 离子交换 / EDI → 抛光精制 → 终端过滤，各单元协同去除水中溶解性离子，逐级提升电阻率。

离子去除阶梯与水质进阶

从原水到超纯水，每经一级处理，离子含量与电阻率呈阶梯式变化。

原水

含多种溶解性离子

Ca²⁺ Mg²+ Na+ K+
Cl- SO₄²- HCO₃-

RO 纯水

预脱盐

电导率降至
原水 5%～10% 以下

去离子水

复床 / 混床 / EDI

深度去除残余离子
1～18.2 MΩ·cm

超纯水

抛光 + UV + 超滤

兼控 TOC 细菌
内毒素与颗粒物

去离子水强调离子去除与电阻率 · 若需控制 TOC、细菌、内毒素、颗粒物，需增配紫外氧化、超滤与终端除菌过滤单元

产品概述

PRODUCT OVERVIEW

去离子水设备（DI 水设备）是一种通过离子交换、反渗透、电去离子（EDI）等工艺去除水中溶解性离子，降低电导率、提高电阻率的水处理系统。其核心目标是去除水中的无机盐类，如钙、镁、钠、钾、碳酸氢根、硫酸根、氯离子等，从而得到去离子水或高纯水。

去离子水设备通常由预处理单元、反渗透单元、离子交换单元（复床 / 混床）、EDI 模块、抛光混床、紫外装置、终端过滤器和控制系统等组成，可根据产水水质要求灵活配置。

需要说明的是，去离子水主要强调离子去除。若同时需要控制总有机碳（TOC）、细菌、内毒素、颗粒物等指标，需增加紫外氧化、超滤、终端除菌过滤等单元，此时产水可接近或达到超纯水要求。

RO + 混床去离子水设备

出水电阻率通常可达 1～18.2 MΩ·cm（25℃），视进水水质和混床配置而定。

RO + EDI 去离子水设备

出水电阻率通常可达 5～18.2 MΩ·cm（25℃），无需酸碱再生，但需以 RO 产水作为进水。

复床 + 混床去离子水设备

适用于工业级去离子水制备，需酸碱再生。

实验室小型去离子水机

多采用一体化纯化柱或小型 EDI 模块，产水量通常为 5～200 L/h。

与软化水设备的区别

软化水设备仅去除钙、镁离子，通常使用钠型阳树脂和盐箱再生；去离子水设备去除的是更广泛的溶解性离子，常采用 H 型阳树脂、OH 型阴树脂、混床或 EDI。

树脂装填位置

树脂装在离子交换柱或树脂罐内，不在盐箱内。盐箱是软化水设备中储存软水盐、制备盐水的部件，不装树脂。

典型系统组成

预处理单元反渗透单元离子交换单元 EDI 模块抛光混床紫外装置终端过滤器控制系统

1～18.2 MΩ·cm产水电阻率（25℃，视配置）

≤0.055～2 μS/cm产水电导率范围

0.5～100 m³/h工业型产水流量（可定制）

工作原理

WORKING PRINCIPLE

1

预处理单元

原水先经过多介质过滤、活性炭过滤、保安过滤等，去除悬浮物、余氯、有机物和部分胶体。若原水硬度较高，可增设软化单元，以保护反渗透膜和后续离子交换树脂。预处理的目标是使进水满足反渗透或离子交换单元的进水要求。
核心作用：除悬浮物 · 除余氯 · 保护膜与树脂
2

反渗透（RO）单元

在压力驱动下，水分子透过反渗透膜，大部分溶解性盐类、有机物、细菌和颗粒物被截留并随浓水排出。RO 产水电导率通常可降至原水的 5%～10% 以下，为后续去离子单元降低负荷。RO 产水本身已属于纯水，但离子去除程度通常低于混床或 EDI 出水。
核心作用：预脱盐 · 降低后续负荷
3

离子交换单元

离子交换是去离子水设备的典型工艺，分为复床和混床两种形式，通过 H 型阳树脂与 OH 型阴树脂分别置换水中阳离子与阴离子。

阳床

内装 H 型强酸阳离子交换树脂。水中的 Ca²+、Mg²+、Na+ 等阳离子与树脂上的 H? 发生交换，出水呈酸性。

阴床

内装 OH 型强碱阴离子交换树脂。水中的 Cl-、SO₄²-、HCO₃ -等阴离子与树脂上的 OH-发生交换，H+ 与 OH-结合生成水。

混床

将阳、阴树脂按一定比例混合装在同一交换柱内，相当于多级阳床和阴床串联，可更深度地去除残余离子，出水电阻率可达 1～18.2 MΩ·cm（25℃）。

再生方式：阳树脂用盐酸 · 阴树脂用氢氧化钠
4

EDI 单元

EDI（电去离子）将离子交换膜、离子交换树脂和直流电场结合，在电场作用下连续去除水中的离子，并通过浓水室排出。EDI 模块内部也填充离子交换树脂，但其树脂通过电场连续再生，不需要酸碱再生，也不需要盐箱。EDI 通常以反渗透产水为进水，产水电阻率可达 5～18.2 MΩ·cm（25℃），具体与进水水质和模块配置有关。
核心特点：电场连续再生 · 无需酸碱与盐箱
5

抛光与终端处理

若需要更高电阻率或更低 TOC，可在末端设置抛光混床、紫外氧化（185/254 nm）、超滤或终端除菌过滤器。抛光混床用于去除痕量离子；紫外用于降低 TOC 和杀菌；终端过滤用于截留颗粒和微生物。是否配置这些单元，取决于最终用水要求。
核心作用：提升电阻率 · 降 TOC · 除菌除颗粒

产品性能特点

出水水质可按需配置

去离子水电阻率可根据工艺配置在较宽范围内调整，常见范围为 1～18.2 MΩ·cm（25℃）。

配置 RO+EDI 或 RO+混床时，可满足工业纯水、实验室去离子水等不同要求。

在线电阻率 / 电导率监测可实时反映出水水质，便于运行判断。

工艺组合灵活

可根据原水水质和产水要求选择 RO+EDI、RO+混床、复床+混床等组合。

原水含盐量较高时，优先采用反渗透预脱盐，降低离子交换负荷。

对无需酸碱再生的场景，可选用 EDI 工艺；对产水电阻率要求较高且具备再生条件的场景，可选用混床工艺。

自动化控制

采用 PLC 或微电脑控制器，实现自动运行、自动再生、自动冲洗、报警保护等功能。

可显示电阻率、电导率、流量、压力、运行状态等参数。

可选配远程通讯接口，便于集中监控和数据记录。

运行与维护

EDI 工艺无需酸碱再生，减少了酸碱储存和废水中和环节。

混床工艺需酸碱再生或更换树脂，运行成本与再生频率、酸碱价格有关。

反渗透膜、树脂、EDI 模块、滤芯等属于定期维护或更换部件，寿命受进水水质和运行工况影响。

设备材质可根据场景选用玻璃钢、不锈钢、PVC、PP 等，适应不同环境。

安全与环保

酸碱再生系统需设置防腐蚀、防泄漏和废水中和措施。

EDI 工艺可减少酸碱使用，但仍有浓水排放，需按当地要求处理。

电气系统应具备接地、漏电保护和缺水保护等功能。

技术参数（参考）

TECHNICAL DATA

主要技术指标与配置范围
参数项目	指标范围
产水电阻率	1～18.2 MΩ·cm（25℃），视工艺配置
产水电导率	≤0.055～2 μS/cm，视工艺配置
产水流量	实验室 0.5～200 L/h；工业 0.5～100 m³/h，可定制
进水要求	市政自来水或 RO 产水，需控制余氯、硬度、浊度、CO? 等
工作压力	0.2～0.6 MPa，视工艺段而定
工作温度	5℃～40℃
电源要求	220V / 50Hz 或 380V / 50Hz
控制方式	手动 / 自动 / PLC + 触摸屏
离子交换树脂	强酸阳树脂、强碱阴树脂、混床树脂
再生剂	盐酸、氢氧化钠（混床 / 复床）；EDI 无需酸碱
主体材质	玻璃钢、不锈钢、PVC、PP 等
安装方式	室内，设备间或实验台面 / 落地式

应用领域

APPLICATIONS

电子与半导体行业

用于晶圆清洗、蚀刻、显影、器件冲洗等环节的纯水或高纯水制备。

电力行业

用于锅炉补给水、循环冷却水补水、凝结水精处理等，降低水中离子含量，减少结垢和腐蚀风险。

制药与生物工程

作为纯化水系统、注射用水系统前处理或实验室用水，需结合药典和 GMP 要求进行验证。

实验室与科研

用于分析仪器供水、试剂配制、标准溶液稀释、玻璃器皿最终冲洗等，HPLC、IC、ICP-MS 等通常需要去离子水或超纯水。

化工与电镀

用于电镀液配制、表面清洗、化学试剂生产、涂料配制等。

食品饮料

用于配料、清洗、锅炉等环节，具体需符合食品生产用水要求。

医疗与检验

用于检验科、消毒供应室、生化分析仪配套供水等，需结合医疗用水规范。

电池与新能源

用于锂电池、铅酸电池、燃料电池等生产过程中的清洗和配料用水。

纺织印染

用于染料配制、漂洗等，减少水中离子对染色效果的影响。

选型参考建议

SELECTION GUIDE

选择去离子水设备时，建议综合考虑以下因素
考量因素	说明
原水水质	检测电导率、硬度、余氯、浊度、CO?、SiO? 等，判断是否需要 RO 预脱盐
产水水质	明确电阻率、电导率、TOC、细菌、内毒素等指标要求
产水量	根据日均用水量和峰值用水量确定，建议预留合理余量
连续供水需求	需要不间断供水时，可配置双列混床、双套 EDI 或储水罐 + 循环系统
再生方式	具备酸碱管理条件可选混床；希望减少酸碱使用可选 EDI
安装空间	考虑预处理、RO、EDI / 混床、控制柜、水箱等占地
废水排放	RO 浓水、EDI 浓水、再生废水需有合规排放或中和措施
运行成本	综合电费、膜和树脂更换、酸碱消耗、滤芯更换、人工维护等
自动化程度	根据现场人员配置选择手动、半自动或全自动控制

常见问答 FAQ

FAQ

Q1：去离子水设备与软化水设备有什么区别？

软化水设备主要通过钠型阳离子交换树脂去除钙、镁离子，降低硬度，树脂用氯化钠盐水再生，盐箱内装的是盐，不是树脂。去离子水设备则去除更广泛的溶解性离子，通常采用 H 型阳树脂、OH 型阴树脂、混床或 EDI，出水电阻率更高。两者目标不同，可组合使用，例如软化作为反渗透的前处理。

Q2：去离子水、反渗透水、超纯水有什么区别？

反渗透水经反渗透膜处理后的水，可去除大部分溶解盐、有机物和微生物，但残余离子仍可能较多。去离子水强调通过离子交换或 EDI 进一步去除离子，电阻率通常高于普通 RO 水。超纯水不仅要求电阻率达到 18.2 MΩ·cm（25℃），还通常对 TOC、颗粒、细菌、内毒素等有更严格要求，需要组合更多精制单元。

Q3：电阻率 18.2 MΩ·cm 代表什么？

18.2 MΩ·cm（25℃）是理论纯水的电阻率极限，表示水中离子性物质含量极低。但电阻率高不等于无菌、无热原、无 TOC。若实验或生产对细菌、内毒素、TOC 有要求，还需配置紫外、超滤、终端过滤等单元，并进行相应检测。

Q4：EDI 和混床有什么区别？

EDI 为电去离子，利用电场连续再生离子交换树脂，无需酸碱再生，但通常需要 RO 产水作为进水，设备投资相对较高。混床为离子交换混床，出水电阻率可达较高水平，但树脂失效后需要酸碱再生或更换，会产生再生废水。选择时需结合进水条件、产水要求、酸碱管理和运行成本综合判断。

Q5：树脂在设备里怎么装？盐箱里装树脂吗？

树脂装在离子交换柱或树脂罐内。复床分为阳柱和阴柱，混床将阳、阴树脂混合装在同一柱内。EDI 模块内部也填充离子交换树脂，但通过电场再生。盐箱是软化水设备中用于储存软水盐和制备盐水的部件，不装树脂。去离子水设备通常没有盐箱，除非前端配置了软化单元。

Q6：设备对进水有什么要求？

进水要求与工艺有关。若采用 RO+EDI，进水通常为 RO 产水，需控制电导率、余氯、硬度、CO?、SiO? 等指标。若采用混床，进水一般需先经 RO 或复床预脱盐，以延长树脂再生周期。原水余氯过高会氧化树脂和膜，硬度偏高易结垢，浊度和有机物偏高会污染树脂和膜。建议在选型前进行水质检测。

Q7：设备运行成本包括哪些？

主要包括：

电费
反渗透膜和树脂更换费
EDI 模块维护费
酸碱消耗费
滤芯更换费
废水处理费
人工维护费

EDI 工艺通常减少酸碱消耗，但模块投资和更换费用需考虑；混床工艺酸碱消耗与再生频率有关。具体成本受原水水质、产水量、运行时间和当地价格影响。

Q8：再生废水怎么处理？

混床和复床再生会产生含酸碱废水，需经中和处理至符合排放要求后排放，或委托有资质单位处置。EDI 和反渗透产生的是浓水，通常不含再生酸碱，但仍需按当地排水要求处理。设备间应设置排水沟、中和池或废水收集装置，具体以环保要求为准。

温馨提示：本页所列为通用产品介绍，产水电阻率、电导率与运行成本均受原水水质、工艺配置与运行工况影响；实际配置与性能指标以双方确认的技术方案及合同为准。

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